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La technologie Dilase mise au point et brevetée par Kloé, repose également sur son savoir-faire en matière d'élaboration de matériaux hybrides organiques-inorganiques. Ces matériaux vitreux synthétisés par procédé sol-gel sont à l'origine d'une nouvelle génération de matériaux répondant aux besoins d'une large gamme d'applications. L'ajustement du rapport organique/minéral permet à Kloé de proposer une large gamme de solutions de couches optiques, de colles optiques, de revêtements, de résines, offrant des propriétés thermiques, mécaniques et optiques intéressantes.
Ainsi faisant partie du savoir-faire et du coeur de métier de la société Kloé, le développement de matériaux hybrides permet de proposer une trentaine de nouveaux matériaux dont certains sont brevetés. Ces matériaux s'appliquent aux colles optiques innovantes, aux revêtements anti-rayures, hydrophobes, lipophiles, antireflets, ou bien aux résines de lithographie fines ou épaisses, inscriptibles à 325, 375 ou 405 nm.
Le large panel d'applications des matériaux hybrides ainsi que la présence des plus grands spécialistes du procédé sol-gel au sein de la société, nous a conduit à proposer à nos clients un service de développement de matériaux sur cahier des charges.
Aujourd'hui nos matériaux sont qualifiés chez de nombreux clients dont plusieurs grands groupes industriels multinationaux.
Colles
La gamme de colles K-Px développée et brevetée par Kloé est élaborée à partir de précurseurs organo-minéraux. Le composé final est une structure hybride constituée de deux parties, l'une organique, l'autre minérale.
Ces solutions présentent un certain nombre de propriétés physico-chimiques intéressantes telles qu’un CTE faible, un faible retrait, une bonne résistance mécanique aux attaques chimiques de type acide ou base et une bonne stabilité au vieillissement. Les colles de gamme K-Px réticulent soit thermiquement, soit par insolation, soit par une combinaison des deux procédés pour certains assemblages optiques.
En effet, les bonnes tenues mécaniques et stabilité dans le temps proviennent de la composante minérale tandis que la complaisance et la photosensibilité viennent de la composante organique.
Ainsi, vos solutions Kloé présentent des propriétés mécaniques et thermiques beaucoup plus stables que les compositions polymères.
Vos dépôts standard seront de l'ordre de 50nm à 100µm d'épaisseur.
Ces colles sont déjà qualifiées pour de nombreuses applications telles que l'application spatiale, l'interconnexion, l'assemblage optique et l'application cryogénique.
Résines
Kloé a développé sa propre gamme de résines négatives de lithographie K-CL basée sur des compositions hybrides organiques-inorganiques.
La présence d'un réseau minéral dans la structure confère à ces résines, après polymérisation, des propriétés mécaniques spécifiques, telles qu'une forte résistance aux solutions de gravure humide de semi-conducteurs, aux solutions de gravure sèche de type RIE, DRIE et plasma. Ces résines sont également compatibles avec des structurations à facteurs de forme élevés (> 10) en raison de leur excellent comportement mécanique.
La nature hybride des résines de la gamme K-CL permet de vous proposer différents seuils de sensibilité et ainsi d'obtenir des motifs de très haute résolution et des angles de lithographie de 90°.
De par l'étendue de la gamme disponible, les résines K-CL offrent une plage d'utilisation à des longueurs d'ondes comprises entre 325 et 405 nm.
Aussi, certaines compositions sont déclinées selon des compositions différentes permettant l'obtention de dépôts très épais en une seule passe.
Ces matériaux simples d'utilisation peuvent être déposés à l'aide des techniques les plus répandues : tournette (spin-coating), trempage-retrait (dip-coating), spray-coating, doctorblade...
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29 avril 2011 :
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