Le CEA de Grenoble, qui s’intéresse à la technologie de micro-nanostructuration de surface et le prototypage rapide, a lancé un appel d’offres ouvert pour se doter d’un équipement de lithographie par laser de grande surface et de très haute résolution.

A l’issu de cet appel d’offre qui se clôturait le 16 avril dernier, c’est l’équipement Dilase 750 haut de gamme de la société Kloé qui a été choisi. Dilase 750 est un équipement entièrement modulable équipé de deux lasers d’écriture et de trois axes optiques de mise en forme de faisceau pour l’écriture. Cet équipement, d’environ 1200 kg pour des dimensions de l’ordre de 170x170x130 cm3, est actuellement le seul équipement qui permette l’écriture de motifs submicroniques sur des surfaces aussi larges que 1600 cm2.

Kloé, qui a lancé commercialement sa gamme d’équipement Dilase dans la seconde moitié de l’année 2006 et reçu le Photon d’Argent en septembre 2006 pour cette innovation, mise sur cette première référence pour devenir un acteur majeur dans le domaine des équipements de lithographie par photoinscription.